van het blikveld naar boven en nasaal plaats heeft. Geschiedt
dit in een gasatmospheer dan ontstaan gaslekken en buitenge-
vechtstelling.
Tijdens het richten in de gedwongen houding wordt, zooals
wij hebben aangetoond, uitsluitend het periphere gedeelte van
het bovenste nasale quadrant van het oogglas gebruikt, terwijl
het overige gedeelte van het glas kan worden afgedekt, zonder
dat de schutter hiervan hinder ondervindt.
Hieruit blijkt dat de stand van het oogglas zeer ongunstig is
voor het richten en dat een verplaatsing hiervan naar boven en
nasaal, een aanzienlijke verbetering in de uitkomsten der schiet
oefeningen kan geven.
De in het voorafgaande opgesomde moeilijkheden tijdens het
richten zijn bij moderne legermaskers van verschillende herkomst
vastgesteld en overtreffen in vele gevallen de bezwaren, welke
optreden bij het in beschermingstelling dragen van een gasmasker
van het Kon. Ned.-Ind. Leger. Er zijn echter ook gelaatstukken,
welke in dit opzicht beter voldoen. Bij de constructie van een
nieuw gelaatstuk dient in de toekomst met het bovenstaande re
kening te worden gehouden.
778
